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구리의 펄스 전착
Pulsed Electrodeposition of Copper

등록 : 2012.09.03 ⋅ 81회 인용

출처 : Plating & Surface Finishing, 8월 1992, 영어 8 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.14
구리의 펄스 전기분해는 황산구리욕에서 구리를 전착하여 체계적으로 조사되었다. 전류 밀도 범위가 2.5~7.5 A/dm2 인 10~100 Hz 주파수에서 5~80 % 의 펄스 듀티사이클이 사용되었다. 직류 및 펄스전류를 모두 사용하는 Hull Cell 패널에 외관이 기록되었다. 전류효율, 음극전위 및 경도 및 다공성과 같은 도금의 특성에 대...
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