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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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양자화 계산방법에 의한 무전해석출 프로세스의 해석
Quantum chemical analysis of electroless deposition process

등록 2012.10.04 ⋅ 27회 인용

출처 표면기술, 62권 12호 2011년, 일어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 무전해도금기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.04.01
양자화학계산을 이용한 무전해석출 방법의 반응해석에 착수하고, 여러종류의 방법에 있어서 반응기구를 의논하였으며, 주로 이 연구에 있어서 성과를 소개하고, 이론계산에 따른 지금까지 밝혀진 여러가지 무전해석출프로세스의 반응기구를 설명..
  • 산성 무전해 니켈-인 Ni-P 도금액에서 광택 최적화를 위해, 복합적인 광택의 최적농도를 시험하여 결정하였고, 서로 다른 광택조건에서 광택피막의 외관을 관찰 및 분석 하...
  • 니켈-인 Ni-P 전착물의 특성은 인함량 및 미세 구조와 가장잘 관련될수 있다. 이 연구는 0~40 g dm−3 인산 H3PO3 를 포함하는 니켈 설파메이트욕에서 도금된 피막의 미세구...
  • 아스펙비가 다른 트렌치를 가진 부도체상에 균일한 도전막형성을 목적으로하여, 도금욕조성의 변화와 균일석출성에 관여하는 인자에 관하여 고찰
  • 약전해망 ㆍ Dummy Cathode 전기도금욕 중의 유기 또는 무기 불순물을 제거하기 위한 음극을 말한다. 표면적을 증가시키고 저전류를 효과적으로 이용하기 위하여 그물망을 ...
  • 착색 · Coloring 도금 또는 금속의 표면을 착색하는 방법으로 화학적으로 약품에 의한 산화물·황화물 등의 착화합물 형성 전기화학적으로 전해에 의한 [양극산화] 처리후 착...