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CoNiP 자성박막의 전기석출에 대한 인 재료의 효과
Effect of phosphrous source materials on the electrodeposition of CoNiP magnetic films

등록 2012.07.29 ⋅ 70회 인용

출처 Applied Science, 6권 1호 2006년, 영어

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 무전해도금통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.12
MEMS (Micro Electro Mechanical System) 장치의 제조에서 전착은 다른 전착기술을 커버 한다. 코발트-니켈-인 CoNiP 도금은 자기특성을 기반으로 장치에 사용되는 것중 하나이다. CoNiP 도금은 필요한 화학물질이 포함된 전해질에서 전착될수 있다. 이 연구에서 염화암모늄과 두가지 유형의 소스 인화합 물질을 포함하는 도...
  • 자기특성을 지배하는 각인자의 불명확성을 전착으로 만든 자성선의 자장-자속밀도 관계특성곡선 (히스테리시스 루프) 상의 특성치와의 상관성에 관하여 설명
  • 현재 연구되어진 문헌을 중심으로 해서, 기본 욕조성 및 조건을 제시하고 일부 도금에 대해서만 실제현장에서 이용되고 있는 현황 및 자상태를 자세하게 언급
  • 에너지절감식 양극산화 전해, 도전성 양극산화, 압착하지처리용 양극산화, 단형파직류에 의한 전해착색, 알루미늄 표면처리용 고성능전원, 알루미늄에의 티타늄피복등의 최...
  • 티타늄 하지체의 도금 전처리 방법은, 백금 도금 전에 티타늄 하지체에 대한 전처리 방법으로서 플라즈마 기법을 이용하여 하지체 표면의 접착 유기물 및 산화막을 제거하는...
  • 역사적으로 매우 오래된 도금기술중에 무전해도금은 매우 새로운 기술이라 할수 있다. 1946 년 Brenner 와 Riddell 이 니켈도금의 결과를 AES 에 발표한 것이 무전해도금이 ...