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무전해니켈 박막도금 방법 및 도금 장치
Electroless Nickel Thin film plating method and plating equiment

등록 2008.08.02 ⋅ 50회 인용

출처 한국특허, 2005-0489296, 한글 7 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.22
내식성 내마모성 등의 성질의 필요성 때문에 도금이 필요하지만 전극의 설치가 용이하지 않거나 도금용액에 담그는 것이 용이하지 않은 경우나 좁은 틈 사이를 도금하여야 하는 경우에 소재의 표면에 도금용액을 흘려보내는 방식으로 도금을 하는 방법과 그 장치
  • 3종의 새로운 합금 분야를 개발하기위한 기초연구로서, 철족 전이금속인 니켈 Ni 과 백금-몰리브덴-니켈 Pt-Mo-Ni 3원합금 도금의 전석조건을 확립하기 위한 연구
  • 하나 이상의 단백질 유래 중합체, 당 유래 중합체, 소르비톨, 탄닌 또는 비닐 계 중합체, 요오드 또는 요오드-부족 화합물을 함유하는 금속 표면용 산세정 / 산세척 조성물 ...
  • 니켈염과 차아인산소다을 주성분으로 하고 여기에 적당한 첨가제를 첨가하여 제조하고, 혼합 용액중에 소지금속을 침지하여 그 표면에 필요 두께의 니켈피막을 형형성시는 ...
  • 전기도금 공정에 대한 최적의 공정조건은 도금두께와 Sn 비율입니다. 요인은 온도, 전류 밀도 및 추가다. 작은 부분으로 나누는 원리에 따라 총 실험횟수를 최소화했다. 우...
  • 착화 · Complexing 착체 착이온을 형성한 염을 말하며, 착이온으로 해리하지만, 착이온 자체는 전리정수가 작아 극소량만 전리한다. 아민화합물·유기 카르본화물 등의 착염...