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알루미늄 표면 마스크에 대한 니켈의 무전해 석출
Electroless deposition of nickel on a masked aluminum surface

등록 : 2008.08.03 ⋅ 62회 인용

출처 : 미국특허, 1978-4122215, 영어 7 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.02.13
설명된 방법은 priart 에서 요구하는 중간층 표면 활성화를 사용하지 않고 알루미늄 위에 직접 두꺼운 니켈층을 도금한다. 이 방법은 기본적으로 산화알루미늄을 동시에 제거하는 스톱 에칭액에 침지하여 표면을 활성화 한다.
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  • AAS
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