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저 인함유의 무전해 니켈-인 합금도금 피막의 전기접점 특성
Electrical contact characteristics if electroless NickelPhosphorus alloy films containing small phosphorus

등록 2008.08.07 ⋅ 80회 인용

출처 표면기술, 44권 12호 1993년, 일본어 2 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 금/Au | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.22
내마모성과 네식성이 좋고, 저렴한 무전해 니켈-인 Ni-P 합금도금에 관하여 전기저항, 접촉저항을 적은 피막중의 인합유량을 미량으로 한 피막의 접점특성에 관하여 검토
  • 글리콜산 · Glycolic Acid ^ Hydroxy Acetic Acid 글리콜산은 금속 표면의 녹·스케일 및 산화물을 제거하는 부식성이 낮은 산으로 산과 알코올 역할을 하는 이중 기능을 가...
  • 무전해 니켈-인 Ni-P 도금피막을 매트릭스로 하여 고체윤할제로 PTFE 입자를 공석하는 복합피막을 만들어, 이 피막의 마찰마모 특성을 표면성측정기로 검토 1. PTFE 입자를 ...
  • 아연-니켈 합금을 알칼리 전해질에서 얻었다. 니켈에 좋은 착화제인 4가지 아민을 테스트하여 도금공정과 최종 판에 미치는 영향을 확인했다. 알칼리 전해질과 함께 일반적...
  • 200~550 g/l의 삼산화크롬, 1~18 g/l 의 황산스트론튬, 2~30 g/l 의 실리코 플루오라이드 칼륨, 2~8 g/l 의 중크롬산 칼륨 및 4~50 g/l 의 2,2- 디크로로 말론산 또는 이의 ...
  • 가장 기본적인 연구과제와 양극화 산화피막의 Morphology에 관한 내용이다. [한성호 / 한국표면공학회지, 21권, 3호, 130-141쪽 ,1988년]