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환원제 침투법에 의한 무전해니켈 피막석출 속도에 있어서 욕조건의 영향
Effects of bath condition on plating rate of electroless Ni films prepared by reducing agent permeation method
등록
:
2008.08.09
⋅ 46회 인용
출처
:
표면기술
, 44권 9호 1993년, 일본어 5 쪽
분류
:
연구
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
Masaharu MOTONE
1)
Yasuo NI8IIlMURA
2)
Minoru MIZUllATA
3)
Kcisuke OGURO
4)
기타
:
자료
:
분류 :
환원제
⋅
석출속도
⋅
목록
Innotive 6520 무전해니켈도금
P+station 로고
Innotive 종합카타록
자료요약
카테고리 :
니켈/Ni
| 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.22
염화니켈 농도, 환원제 농도 및 도금 온도 등의 욕조건이 니켈 석출속도에 미치는 영향을 조사
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