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무전해 Ni-P 도금막의 노듈의 발생원인
Thermal Stability of High resistivy NiP thin film resistor formed by Means of an electroless Deposition
등록
:
2008.08.09
⋅ 48회 인용
출처
:
표면기술
, 48권 4호 1997년, 일어 2 쪽
분류
:
연구
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
Tetsuya OSAKA
1)
Madoka TAJAI
2)
Taichi HIGASHIKAWA
3)
Atsushi IIZUKA
4)
기타
:
자료
:
분류 :
노듈발생
⋅
전처리조건
⋅
니켈-인
⋅
목록
도금인의 소식지 표면처리세계
Real Web Magazine
plating.kr 로고
자료요약
카테고리 :
니켈/Ni
| 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.22
공업적으로 넓게 이용되는 무전해 니켈-인 Ni-P 도금막의 표면에 발생하는 노듈에 관하여, 소재 전처리 조건 및 도금욕 조건과의 관계에 관하여 검토
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