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무전해 Ni-P 도금막의 노듈의 발생원인
Thermal Stability of High resistivy NiP thin film resistor formed by Means of an electroless Deposition

등록 2008.08.09 ⋅ 68회 인용

출처 표면기술, 48권 4호 1997년, 일어 2 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.22
공업적으로 넓게 이용되는 무전해 니켈-인 Ni-P 도금막의 표면에 발생하는 노듈에 관하여, 소재 전처리 조건 및 도금욕 조건과의 관계에 관하여 검토

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