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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
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팔라듐 테트라-아미노 착화물 이온, 적어도 10 g/l 농도의 팔라듐금속 및 적어도 하나의 탄산염 또는 적어도 하나의 카보네이트 또는 약 7.5 g/l 초과 및 약 150 g/l 미만 농도의 인산 음이온 용액으로 약 7~9 의 pH 를 가지며 4 차화된 피리디늄으로 광택제로 한다. 팔라듐은 충분한 교반과 100 ASF 이...
전기도금기타
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미국특허 · 1985-4545868 · James L. Martin ·
John E. McCaskie
외 ..
참조 43회
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고전류밀도 덴드라이트 형성을 감소시키고 산성 아연염으로부터 얻은 아연 피막의 고전류밀도 거칠기, 입자 크기 및 배향을 제어하기위한 고전류밀도 전기아연 도금공정 및 조성물이 제시된다.
아연/합금
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미국특허 · 2002-0112966 · Nicholas M Martyak ·
John E. McCaskie
참조 28회
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광택제로 4급 피리딘 조성물을 사용한 팔라듐 전해욕
수용성 4 등분 피리딘염은 수용성 팔라듐전해질 도금조에서 약 0.001 g/l 의 용해도 한계까지 약 10 g/l 의 양으로 사용되어 광택 밝기를 크게 향상시킨다.
전기도금기타
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미국특허 · 1976-3972787 · Fred I. Nobel ·
John McCaskie
참조 48회
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도포된 HCD 아연피막은 수지상 방지제를 곡물 정제 제보다 더 많은 양으로 증가시킴으로써 설폰화 나프탈렌 포름 알데하이드 항수지제 및 저분자량 에틸렌 옥사이드 중합체를 사용할 때 더 부드러워 질 것이다.
아연/합금
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미국특허 · 1997-5656148 · Nicholas M. Martyak ·
John E. McCaskie
참조 33회
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