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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...

도금조 내 전도성 도금 염 및 광택제의 양을 늘리고 조 교반을 증가시켜 생산 공정을 개선하였다. 연구의 두 번째 단계에는 다양한 표면 활성화 공정을 평가로, 금판의 레토르트 소결 및 7개의 시안화물 금 도금욕을 평가하였다. 장기간에 걸친 연구에 따르면 금속화 세라믹에 대한 가장 효과적인 활성...

금은/합금 · General Electric Company · Oct 2978 · T. J. Gillespie · R. J, Antepenko 참조 154회

316L 스테인리스강 음극에 대한 구리 전착 공정에 사용되는 폴리에틸렌 글리콜(PEG) 및 기타 첨가제의 영향을 순환전압전류법과 정전위 펄스 기술로 분석하였다. 모두 실제 유기 첨가제가 포함된 도금욕을 대신한 PEG 욕을 사용할 때 더 높은 전착 시간에서 더 일정한 거칠기 수준의 지속성과 관련...

구리/합금 · Latin American Applied Research · 42권 2012년 · R. SCHREBLER ARRATIA · H. AROS MENESES 외 .. 참조 13회

질산에서 구리 및 구리합금의 부식에 대한 에틸렌아민 (EA), 에틸렌디아민 (EDA) 및 부탄디아민 (BDA) 과 같은 아미노기를 포함하는 유기화합물의 첨가효과를 무게손실, 개방회로 전위 및 전위 역학 분극기술로 연구하였다. 부탄 디아민이 최고의 억제제이고 보호효율 (p %) 은 부탄디아민 > 에틸렌디아...

엣칭/부식 · American Science · 6권 8호 2010년 · O.R.M. Khalifa · A.K. Kassab 외 .. 참조 18회

구리 배선 공정은 플라즈마 식각시 발생하는 부산물의 제거가 어려운 특성이 있어, 기존의 etch-back 공정대신 층간 절연막을 먼저 형성한 후 금속이 들어갈 자리를 사진 식각 공정 (photo-lithography)을 통해 형성 하고 후속 전해도금을 이용한 구리막의 채움으로 진행된다. 이러한 공정은 단순히 단...

도금자료기타 · CHERIC · · 김수길 · 참조 15회

Chomerics 는 세계 최대의 EMI (전자기 간섭) 차폐재료 제조업체이다. 강점은 서비스, 경험, 기술 및 비교할수 없는 디자인 능력이다. 1961 년부터 Chomerics 는 압출, 성형 및 RTV 컴파운드 형태의 전도성 엘라스토머 기술을 개발하고 적용하는데 주력해 왔으며 최근에는 Form -in- Place 개스킷을 사...

응용도금 · Chomerics · na · na · 참조 22회

LIGA 방법을 이용하여 선폭 20~40 μm, 높이 220 μm (아스펙비 최대 10) 의 금속제 마이크로 스프링 제작에 관한 연구

응용도금 · Ricoh Technical Report · 33호 2007 · Fumiaki KATO · 참조 29회

후지 일렉트릭은 1983 년에 양산 스퍼터링 기술을 개발하기 시작했다. 이때 시장에서 사용되는 자기디스크는 산화철의 산화철 또는 감마 헤마타이트 코팅 유형이었다. 또한 저소음과 높은 보자력 특성으로 인해 고성능 응용을 위해 코발트-크롬-탄탈룸 CoCrTa 로 개발되었다. 코발트-크롬-백금 CoCrPt ...

건식도금 · FUJI Electric Review · 38권 4호 · Tadanimi Katoch · Hisashi Yamasaki 외 .. 참조 50회