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검색글 Shuhei MIURA 2건
무전해니켈 도금에 의한 알루미늄 양극상의 범프 형성
Fabrication of micro bumps on aluminum electrode using electroless nickel plating

등록 2008.08.17 ⋅ 55회 인용

출처 표면기술, 52권 2호 2001년, 일어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.13
징케이트리스 무전해니켈 도금법의 조작조건을 최적화 하여 균일한 니켈범프 형성을 가능케하는 보고서
  • 코발트-니켈 Co-Ni 합금막의 전석조건과 막의 미세구조와 기본적인 관계를 얻기 위하여, 첨가제없이 황산욕에서 여러 전위의 Co-Ni 합금막을 전석하여, 그 미세구조를 전조...
  • 스루홀 황산구리도금 첨가제의 기본적 2성분에 관하여 CVS 거동과 피막특성의 영향을 조사하고, 연속작업욕에의 CVS법의 적용성을 검토하였다.
  • 도금을 위해 필요한 전해질은 높은 이온성를 갖고 있어 폴라로그래피 분석을 하는데 이상적이다. 도금조의 주된 폴라로그래피 분석은 전형적으로 DC differential pulse 법...
  • 분극저항이 큰 에틸렌디아민 착화욕에서의 구리 전석에 관하여, 유기유황계 첨가제를 사용하지 않고, [[균일전척성] 및 물성이 우수한 구리판을 만드는 조건의 확립과, LSI ...
  • 하나 이상의 에피할로 히드린과 하나 이상의 질소 복소환 화합물의 반응에 의해 제조된 저 분자량 중합체의 수용액이 아연 전기도금욕에 첨가되는 아연 전착욕으로부터 광택...