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엘립소메트리에 의한 두께측정
Measurement of film thickness by Ellipsometry

등록 2008.09.19 ⋅ 73회 인용

출처 표면기술, 40권 2호 1989년, 일어 6 쪽

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.08.17
엘립소메트리에 의한 두께측정의 원리와 장치를 소개하고, 금속 및 반도체상의 산화피막의 측정과 전석금속피막의 측정의 응용 보고
  • NDE
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  • 고성능 SIP를 살현하기위하여 필요한 기술로서, 특히 확립이 급무한 IC 미세접합에 관한 기술보고
  • 내식성 내마모성 등의 성질의 필요성 때문에 도금이 필요하지만 전극의 설치가 용이하지 않거나 도금용액에 담그는 것이 용이하지 않은 경우나 좁은 틈 사이를 도금하여야 ...
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