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트리에탄올아민을 착화제로 사용한 무전해 니켈도금욕의 석출속도에 관한 연구
Depositing rate of electroless nickel plating bath contained triethanolamine as a complexing agent
자료 :
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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.07.30
트리에탄올아민을 착하제로 사용하고 금속염으로 황산니켈을 환원제로는 염가이기 때문에 많이 쓰이는 차아인산소다를, 완충제로는 니켈 전기도금에서 도금의 질을 향상시켜주는 붕산을 사용하여, 석출속도를 중량법과 전기화학적 측정법인 분극측정법에 의해 착화제와 완충제를 중점적으로 비교 고찰하고 석출속도의 면에서...
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칼륨욕 나트륨욕의 양욕을 비교한 실험결과를 설명하고, 시안화 구리도금의 진보에 관한 몇가지 역할을 설명
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도금두께, 소재의 종류와 거칠기에 따라, 무전해니켈도금의 방식성능, 피막응력등의 변화에 따라, 염수분무시험, 페록실시험으로 조사하고, 도금두께에 의한 무전해 도금표...
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주석 · Tin (Stannous) 주석, 석은 원소 기호 Sn, 원자 번호는 50이다. 은색의 가단성이 있는 전이금속으로 쉽게 산화되지 않으며 부식에 대한 저항성이 크다. 합금 또는 다...
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환원제로 디메틸아민보란 (DMAB) 욕에서 무전해 니켈-몰리브덴-붕소 Ni-Mo-B 합금도금을 조사했다. 욕에 소량의 Mo-complex 첨가만이 붕소함량을 감소시키고 몰리브덴 함량...
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이소노티네이트 자기조립 단층 (SAM) 은 이소노티닌산(iNA) 을 사용하여 알루미나 표면에 제조하였다. 기능화된 층(iNA-A)은 히드라진의 무전해 석출에 의한 구리 피막 (Cu-...