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전석법에 의한 Ni-S 합금의 석출과정과 비정질막의 형성
Thedeposition process and preparation of amorphous film on Ni-S alloy by electrodepositing method

등록 : 2008.09.18 ⋅ 38회 인용

출처 : 표면기술, 42권 5호 1991년, 일본어 5 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.10.17
Ni-S 전석막의 석출기구에 관한 검토로, 정전위전석법 및 캐소드 분극측정에 따른 고찰
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  • 침탄질화 · carburization 침탄과 동시에 [질화처리]를 하는 방법으로, 처리온도는 700~900 ℃. 처리후 소성한다. 적용소재는 소재는 침탄과 동일하며, 탄소강에도 적용가능...
  • 전기화학적인 양극산화에 의하여 형성되는 알루미늄 산화층의 구조적인 특성과 할용부분을 기술
  • 전기접점부품은 대부분 실용화되어 있으나, 전기접점에의 응용이 기대되는 재료로서, 그 특성을 Au 도금재, Ag 도금재, Ni 도금재 또는 Sn 도금재와 비교한 결과에 관한 보고
  • 나노미터 사이즈의 Nb 금속미립자와 Ti 금속입자를 이용한 무전해 Ni-P 반응성 분산도금을 중심으로 합금화 및 열처리의 거동에 관하여 보고