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전석법에 의한 Ni-S 합금의 석출과정과 비정질막의 형성
Thedeposition process and preparation of amorphous film on Ni-S alloy by electrodepositing method

등록 2008.09.18 ⋅ 45회 인용

출처 표면기술, 42권 5호 1991년, 일본어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.10.17
Ni-S 전석막의 석출기구에 관한 검토로, 정전위전석법 및 캐소드 분극측정에 따른 고찰
  • 적당한 전류효율, 온도와 전류밀도에서 두껍고 균열이 없는 피막의 전착을 위한 적절한 도금 조건을 개발하였다. Ni-Mo 도금 (5-22 wt.% Mo) 은 유체 역학 조건에서 황산염-...
  • 아연염, 염화 암모늄 및 알킬치환된 암모늄 프로폭실레이트 염, 바람직하게는 트리알킬암모늄 프로폭실레이트 염을 포함하는 성분을 포함하는 도금첨가제를 함유하는 광택 ...
  • 1% Cr으로 사전 피복된 다이아몬드 입자에 무전해 구리 도금을 하여 최적화된 반응 매개변수를 얻기 위해 피막 품질 및 석출 속도에 대한 다양한 실험으로 매개변수의 영향...
  • 은 Ag 은 장식용 및 기능용으로 다양한 용도로 사용되는 전기도금이다. 은의 산업용 전기도금은 은의 시안착화물로서 은을 함유하는 시안화물 용액으로부터 수용성 착화물로...
  • PET 섬유표면에 무전해 도금법으로 구리 및 니켈 복합층을 형성시키고 그 형태 및 조성을 전자현미경 사진으로 확인하고, 도금후의 금속과 섬유간의 밀착강도를 측정하였으...