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화학적 세척법에 있어서의 진보
na

등록 : 2013.10.28 ⋅ 10회 인용

출처 : 금속표면기술, 11권 10호 1960년, 일어 6 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

化学的洗淨法における進歩

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자료요약
카테고리 : 전후처리통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.17
금속의 표면은 제조 및 후속 가공중에 피막에 덧 씌우고 또한 가공운반중에 묻은 기름, 녹, 먼지 등으로 오염되어 있다. 더러워진 표면은 청정하고 깨끗한 소지가 되어야 후도금, 화학처리, 도장 등을 행하는데 부적당하다.
  • 나노크기 장치를 만들기 위해 구체적이고 제어된 방식으로 비전도성 소재에 나노크기의 금속을 석출하는 것이다. 모델 시스템에서 나노 규모의 얇은 층, 즉 일반 및 화학적...
  • 광택아연 도금은 지방족 디아민을 지방족 디하이리드와 축합하여 얻은 하나 이상의 선형 폴리아민을 포함하는 시안화물이 없는 알칼리 아연도금욕에서 얻는다. 욕조에 하나 ...
  • 주기율표 · Periodic Table 드미트리 멘델레예프 라는 화학자가 현대 형태의 주기율 표를 고안해 냈으며, 화학 교육의 이론적인 부분도 여기에서 시작한다. 주기율표 참조
  • 표면처리의 결점의 연구가 중요하여 이를 이를 설명하고, 결점의 분류/결점발생원인등의 요인을 설명
  • SPS
    SPS ^ Bis-(sodium sulfopropyl)-disulfide ^ 3,3"-DIthio-Bis-Propansulfonic acid disodium salt C6H12O6S4Na = 354.4 g/㏖ CAS : 27206-35-5 성상 : 백색~약한 황색의 분...