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무전해니켈 도금액에서 착화제가 도금피막에 미치는 영향
The effect of complexiong agent on the deposit characteristics in the electroless nickel plating solution

등록 : 2008.08.22 ⋅ 62회 인용

출처 : 한국표면공학회지, 37권 6호 2004년, 한글 9 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

전준미1) 구석본2) 이홍기3) 박해덕4) 심수섭 5)

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분류 :
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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.09
무전해니켈도금용액에 사용되는 주요 착화제에 따라 도금액의 온도와 pH를 변화시켜 석출속도및 금속표면에 석출되는 인 석출량과 표면저항 등 도금피막의 특성을 분석하여 각각의 도금액에 사용될수 있는 착화제의 특성을 연구
  • 액 중의 성분으로서, 황산 루테늄, 설파민산, 티오 화합물 및 전해중의 양극산화에 의한 티오화합물의 분해를 방지하기 위해서 첨가하는 희생산화제 (犧牲酸化劑) 를 함유하...
  • 디퍼런셔 펄스아노딕 스트립핑 볼타메트리 (DPASV) 를 이용한 황산아연욕을 주성분으로한 도금액중 0.1~2 mg 의 탈륨 Tl, 납 Pb, 카드뮴 Cd, 인듐 In, 주석 Sn, 구리 Cu, 비...
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  • 황산아연 도금욕 ^ Zinc Sulfate Plating Bath [산성아연도금욕|산성아연 도금욕]으로 가장 오래 전부터 사용된 도금액이다. 음극 전류효율이 100 % 에 가깝고, 양극은 주로...