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Cu 미세 배선을 위한 무전해 Ni-B 확산 방지막의 구리 Cu 확산에 따른 상변태 거동
Phase transformation by Cu diffusion of electrolessly deposited Ni-B diffusion barrier for Cu interconnct

등록 2008.08.22 ⋅ 55회 인용

출처 한국재료학회지, 15권 11호 2005년, 한글 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.11.15
구리 Cu 미세패턴의 확산 방지막으로 무전해 NI-B 도금을 적용할때, 제조공정중 고온 노출시 발생하는 Cu의 확산 거동및 Ni-B 확산 방지막 내에서 발생하는 상변태에 대하여 기술
  • 구리 또는 은 Ag 을 니오븀 표면에 도금하는 것은 pH 가 12 보다 높은 구리 Cu(ii) 또는 은 Ag(i) 이온을 포함하여 강알칼리성 용액으로 고온 (80 ℃ 이상) 에서 달성할수 있...
  • 무전해 도금을 직접 행할 수 없는 재료의 피도금체인 열전반도체의 표면의 일부에, 무전해 도금막이 석출가능한 금속으로 이루어지는 금속막을 형성한 후, 그 열전반도체를 ...
  • 화학치환에 의한 ZnBr2 - EMIB - G 3 성분욕중의 아연 Zn 의 일부를 마그네슘 Mg 로 치환하여 ZnBr2-EMIB-G-Mg2 욕을 만들어, 140 도에 Zn-Mg 합금전석을 시험하고, Zn-Mg ...
  • 금속의 화학적 세척에 관하여 설명
  • 고속 크롬도금욕 ^ High Speed Chrome Plating Bath 크롬도금은 기본적으로 전류효율이 낮다. 따라서 장시간 도금해야하는 공업용 경질크롬은 빠른시간내에 도금여 생산성을...