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석출물에 균열이 본질적으로 없는 무전해 석출에 의해 소재상에 구리 전착물을 일관되게 생성하는 방법
Method of consistently producing a Copper deopsit on a subdtrate by electroless deposition which deposit is essentially free of fissures
등록
:
2008.08.22
⋅ 55회 인용
출처
:
미국특허
, US 4908242, 영어 21 쪽
분류
:
특허
자료
:
웹 조사자료
저자
:
Rowan Hughes
1)
Milan Paunovic
2)
Rudolph J. Zeblisky
3)
기타
:
자료
:
분류 :
테트라키스에틸렌디아민
⋅
THPED
⋅
무전해도금
⋅
목록
도금첨가제 원료
장식용 황산구리도금 광택제
도금 광택제 만들기
자료요약
카테고리 :
구리/Cu
| 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
무전해 금속도금 용액은 고유 양극 반응 속도의 110 % 미만으로 용액의 고유 음극반응 속도를 설정하여 고품질 금속 도금을 제공하도록 제조 및 제어한다.
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