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고속 SiC 에칭 기술
HIgh-rate SiC etching technology

등록 : 2008.09.24 ⋅ 137회 인용

출처 : 미쓰비시전기기보, 78권 6호 2004년, 일본어 1 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.09.16
고밀도 ECR 프라즈마 에칭장치와 만든 SiC에칭 특성에 관하여 기술 [高速SiCエッチング技術]

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