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무전해 구리의 석출
Electroless copper deposition

등록 : 2008.08.26 ⋅ 36회 인용

출처 : 미국특허, 1993-5258200, 영어 7 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.07.29
절연기판 및 도금 관통구멍의 벽에 구리를 무전해 도금하여 완전 첨가 또는 부분 첨가 인쇄배선 기판을 제조하는 개선된 방법으로, 구리도금은 열 스트레스 또는 열 순환으로 인한 고장에 대한 저항이 증가한다. 무전해 구리도금 욕에는 구리 화합물이 포함되어 있다.
  • 주석 Sn 함량이 다른 실리콘-주석 Si-Sn 합금 양극은 일정한 전위 공증착법에 의해 유기용매로부터 제조되며, 100 mA/cm2 의 전류에서 100 회의 충 방전 사이클 후에도 여전...
  • 1958년부터 ILZRO (International Lead Zinc Research SYNOPSIS Organization)는 아연합금의 새로운 연마 및 마감 방법을 개발 한 여러 프로젝트를 추진해 왔다. 이러한 개...
  • 무전해구리도금의 최근 발전을 검토하고 착화제, 환원제 및 도금속도에서 첨가제의 역할에 대해 논의하였다. 환경문제로 인해 무전해구리 도금을 위한 시안화물 및 [[ED...
  • 저황산 크롬농도의 3가크롬 전해에서 저코스트와 친환경으로 관심을 받고 있는 장식용 3가크롬을 사용하였다. 도금조의 기능에서 착화제 첨가의 효과와 석출특성을 연구하였...
  • MC
    MC Methylene Chloride 화학공정에서 용매로 사용되며, 표면처리산업에서 [TCE]의 생산 및 사용금지로 대체 세정제로 사용된다. 산업안전보건기준에 따른 관리 물질로 규정...