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CMOS-기반 센서용 알루미늄 칩패턴의 무전해금 Au 도금
Electroless Gold Plating on Aluminum Patterned Chips for CMOS-Based Sensor Applications

등록 : 2014.03.03 ⋅ 12회 인용

출처 : Electrochemical Society, 157권 1호 2010년, 영어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

고정우1) 구효철2) 김동완3) 서성민4) 강태준⁵) 권영주⁶) 윤정민⁷) 전준호⁸) 김용협⁹) 김재정10) 박정준11)

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.08.11
팔라듐을 사용하여 알루미늄 및 그 합금을 활성화하는 방법과 상보적인 금속산화물 반도체 CMOS 기반 센서 애플리케이션을 위한 후속 무전해금도금 ELP를 제시 하였다. 이 연구에서는 기존 CMOS 회로와 쉽게 통합 할수 있도록 CMOS 프로세스호환 알루미늄 Al 패턴칩을 소재로 사용했다. 금속전극과 단일벽 탄소나 튜브 S...
  • 막의 단면관찰을 위하여 투과현미경관찰용시료제작과 울트라미크로롬법을 이용하였다.
  • 산성 황산구리욕의 첨가제는 억제제, 레벨러 및 촉진제로 구성된다. 전자는 볼록영역에서 구리도금을 억제하고 후자는 소량의 염소 Cl- 이온이 존재하는 오목영역에 구리도...
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  • 아연-니켈, 아연-코발트, 아연-니켈-코발트, 아연-철, 아연-철-니켈 및 아연-철-코발트를 포함하는 아연 및 아연합금도금을 하는데 적합한 도금액이 원하는 광택의 전기...
  • 도금 불량 ^ Plating Trouble Sheet [도금불량대책|도금 불량 대책]