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어려운 도금재에 대한 도금기술
Technology to deposit Hard plating materials

등록 2014.06.20 ⋅ 58회 인용

출처 정밀공학회지, 78권 12호 2012년, 일어 4 쪽

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難めっき材に対するめっき技術

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.06.25
팔라듐 사용량을 증가하지 않고 ABS 성형품의 도금석출이 어려운 부품에 도금석출하는 기술을, 저 팔라듐 농도조건에 있어서 도금석출을 가능하게하는 사례를 해설
  • TPP
    TPP 1 ^ 3-S-Isothiuronium propyl sulfonate CAS 21668-81-5 C4H10N2O3S2 = 198.26 g/㏖ 물에 25 ㎎/㎖ 용해 성상 : 백색 편상 결정 순도 : 99% 용도 : [니켈도금]용 중금...
  • 무전해금 Au 도금용액은 금의 공급원으로 시안화물 화합물을 포함하지 않고 일반식으로 표시되는 분해 억제제를 포함한다. 단, 용액에 아황산염의 금복합체가 포함되어 있고...
  • 경강선 산세에 있어서 젤라틴, 티오요소등의 우기물질 및 2-3의 시판 억제제의 효과를 산세취성에 대한 영향을 조사
  • 전착 및 무전해도금과 산세척 및 전기세정을 포함한 관련 공정 단계는 수소가 원자형태로 소재에 들어가 수소취성을 생성할수 있다.이 장에서는 수소취성을 유발하는 요...
  • 황산구리와 황산으로 된 산성 구리수용액에 B-N=N-A-N=N-B로 표시되는 염료유도체를 함유한 것을 특징으로 하는 산성구리도금액에 관한 것이다