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반도체 장치와 무전해 금 Au 도금 방법, 무전해 금 도금액 대체
Substitutional electroless gold plating solution, electroless gold plating method and semiconductor device

등록 2008.09.12 ⋅ 102회 인용

출처 미국특허, 2002-6398856, 영어 13 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 금/Au | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
니켈표면에 무전해금 Au 도금을 적용하기 위한 대체 무전해금 Au 도금액으로 직쇄 알킬아민 인 테트라에틸렌 펜타민, 니켈 또는 니켈 합금의 환원제인 히드라진 1수화물, 금 Au 공급원인 시안화금칼륨이 무전해금 도금액에 혼합된다. 니켈 또는 니켈합금의 표면에 박막형 금도금 층을 직접 형성하는 경우에도 열 이력에 의한...
  • 공정요인, DFR 조성요인의 양면으로부터 내 금도금성(중성 알칼리성 금도금)에 있어서 영향을 조사하고, 내 금도금성의 우수성, 박리특성에 관한 보고 [貴金属めっき用ドラ...
  • 자동차내장의 동향과 내장부품에 처리한 표면기술의 현황화 금후의 기대에 관하여 설명
  • 전자파 차폐용 박형 가스켓의 제조방법에 있어서 폴리머 다공체와 필름을 합체하여 합체물을 형성하는 전처리 단계로, 상기 합체물 상에 두께 방향으로 통공을 형성하는 타...
  • 구리 또는 그 합금의 무전해 화학 연마제에 관한 것으로, 과산화수소 (H2O2), 황산 (H2SO4), 글리세린, 비이온성 계면활성제 및 물을 포함하는 것을 특징으로 하는 구리 또...
  • 30년 이상 메탄설폰산 (MSA) 기술의 리더로서 ATOFINA 는 전자도금 시장에 유용한제품 및 성능데이터를 개발하는데 주력해 왔다. 이에 대한 정보에 설명된대로 E-PURE MSA® ...