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MEMS에 응용되는 무전해 니켈 도금을 이용한 마이크로 구조물의 제조
Fabrication of micro-structure with electroless nickel plating for MEMS applications

등록 2008.10.20 ⋅ 102회 인용

출처 한국부식학회지, 29권 1호 2000년, 한글 7 페이지

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.12.17
저온공정에 적용이 가능한 도금액을 제조하고, 여러가지 전처리 조건, 도금액과 도금조건에 따른 선택성에 대해서 고찰하였으며, 도금조건에 따른 도금속도와 도금피막의 성질에 대해서 고찰하여 최적 도금액의 제조와 도금막의 특성개선에 대한 여구
  • 새로운 환경 지침에 따라 6가크롬욕은 더 이상 두께 경질 크롬 전착에 사용할 수 없어, 3가크롬 전해질을 개발하였다. Cr(III) 도금은 일반적으로 사용 특성과 경도...
  • 응력감소제 · Stress Reducer 도금에서 발생된 [인장응력]은 유기첨가제를 가하여 [전착응력]을 낮춘다. 응력 감소제로는 [사카린]ㆍ[나프탈렌설폰산소다] 또는 광택제 [부...
  • 축척이온의 영향을 이해하고, 무전해 구리도금욕의 장수명화, 석출피막의 물성의 저하의 방지에 관하여 검토
  • PRTR의 대상이되는 화학 물질 (PRTR 법에서는 「제 1 종 지정 화학 물질 "이라한다)은 총 354 있다. PRTR 대상 화학물질 354 중 전기도금 업계에서 언급한 연간 물동량에 관...
  • ABS 수지 (acrylonitrile -butadiene -styrene copoiymeric resin) 에 도금하는 방법은 해당분야에 알려져 있으며, 이는 에칭액으로서 크롬산과 황산의 60 % 수용액을 사용...