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무전해 NiB 도금에 의한 마이크로패터닝
Micro-patterning of NiB films by means of electroless plating

등록 2010.01.27 ⋅ 52회 인용

출처 표면기술, 48권 1호 1997년, 일어 2 쪽

분류 연구

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저자

기타

無電解 NiBめっきによるマイクロパターニング

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.04.06
환원제로 디메틸아민보란을 이용한 무전해도금욕에 있어서 풀애디티브방식에 의한 미아크로오더의 미세가공기술을 확립할 목적으로한 연구
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  • 니켈이온 공급원, 유효량의 티오우레아, 유효량의 사카린, 차아인산염 이온, 하나이상의 킬레이트제, 선택적 기타첨가제를 포함한 무전해니켈도금조 및 이를 사용하여 소재...
  • FAS
    FAS ^ 1-Propanaminium,3-〔(heptadecafluoriictyl)sulfonyl-amino〕-N,N-diethyl-N-(3-sulfopropyl)-inner salt C16H19F17N2O5S2 = g/Mol CAS : 83038-19-1 성상 : 무색의 ...
  • 고탄소강 부품의 녹제거로 염산을 사용하나, 산세에 따라 수소취성을 수반한 취성이 발생하나, 부품이 일정 경도이상 올라가면 않됩니다. 또한 염산에 의한 산세는 시안화욕...
  • 구리 전기도금 시스템은 반도체 웨이퍼에 구리를 전착하는 데 사용된다. 산성 구리 도금의 주요한 욕구성 요소는 황산구리, 황산, 염화물 이다. 독점적인 억제 첨가제가 구...