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구리 다마신 전기도금에 있어서 트렌치 필링 기구의 모의 연구와 전기화학
Electrochemical and Simulative studies of Trench filling mechanism in the Copper damascene electroplating Process

등록 : 2014.08.22 ⋅ 11회 인용

출처 : Materials Tracsaction, 43권 7호 2002년, 한글 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Toshi Haba1) Tekryuki Itabashi2) Hauro Akahoshi3) Akihiro Sano4) Kinya Kobayashi5) Hiroshi Miyazaki6)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.07
다마신 공정에서 구리전기도금조에서 첨가제의 역할이 조사되었다. 상향식 충진 모델을 제안하고 실험결과와 시뮬레이션 결과를 비교하여 확인 하였다. 구리표면을 흡수하고 구리침착을 억제하는 Janus Green B 및 Basic Blue 3 는 충진 성능을 향상시키기 위한 첨가제 사용을 조사했다.
  • 최근에는 전주 기술과 포토리소그래피 기술을 겸비한 복합기술·정밀전주에 대한 수요가 높아지고 있다. 정밀전주는 반도체 제조에 사용되는 포토리소그래피 기술에 의해 형...
  • 전기주조는 주조틀을 플라스틱 및 금속의 복잡한 표면을 성형하는 비용을 낮췄다는 점에서보다 일반적인 공정에 새로운 기능을 제공한다.
  • AISI 1010 철강에 아연의 전착에 대한 알칼리 도금욕에 만니톨을 첨가 효과를 설명하고 평가하였다. 다양한 하한 전위를 가진 주기적 전압전류로부터 초기 아연벌크 전착 (w...
  • 인산 · Phosphoric Acid 올소인산 이라고도 하며, 가장 중요한 인의 산소산이다. 화학식은 (H3PO4). 인산염 형태로 비료로 사용되는 것 외에 치과용 시멘트질, 알부민 유도...
  • 구리전기도금은 전자장치 제조를 위해 전자 산업에서 널리 사용된다. 특히 인쇄회로 기판 및 반도체 제조에 대해 연구된다. 높은 종횡비 회로기판 제조에 대한 전자...