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청정기법개발 - 도금공정의 청정화기법 개발
Development of Clean Technology - A study on the development of Clean Plating Technology

등록 2014.09.05 ⋅ 26회 인용

출처 환경부, 1997.1.14, 한글 141 쪽

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자료요약
카테고리 : 폐수처리 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.09.05
도금은 산업적 중요성이 큰반면 환경에 미치는 영향이 지대하며, 중소기업형 산업으로 정부차원의 기술적 재정적 지원이 필요한 분야이다. 그러나 도금공정의 청정화를 위하여 사업장별로 검토해야하는 어려움이 있어 선진기법을 수집검토하여 국내실정에 맟도록 선별적용한 표준기법을 보급
  • 이상적인 모델로서 금소지를 이용하여, 그위에 여러종류의 피보율로 팔라듐촉매를 고분산 석출 하였다. 무전해 Ni-P 도금의 초기석출거동에 관하여 조사하고, 팔라듐촉매의 ...
  • 니켈 Ni2+ 의 착화제로 에틸렌디아민을 첨가한 징케이트욕에서 아연-니켈 Zn-NI 합금전석을 하고, 트리에탄올아민을 첨가한 욕에서 전석거동을 비교
  • 프린트배선판의 주로로 서브트랙티브법에 있어서 에칭공정에 관하여, 장치 및 에챤트의 특성 재생기술에 관하여 해설
  • 과산화수소 처리 ^ Hydrogen Feroxide Treatment 황산구리 도금욕 (기타 도금액의 [과산화수소] 처리도 동일한 과정을 거친다.) 대부분의 모든 전기도금욕은 주기적으로 유...
  • 루테늄 도금 ^ Ruthenium Plating 백금족 원소로 저 접촉저항ㆍ내경도ㆍ내식성ㆍ내마모성 등이 우수하나, [내부응력]이 크고 크랙의 발생이 쉬워 3 ㎛ 이상의 도금이 어렵다...