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Tetuhiro AOE 3건
Pstation 문헌자료실 입니다 (검색참고)
Wet Electro/Electroless Plating Process Study Note
자료 :
자료요약
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금은 '-' 로 연결 표기 ...
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기본적인 처리액조성을 가진 도포형 크로메이트에 관한 연구결과를 기초로 피막구조, 방식기구에 관하여 소개
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현재 도금공정에서 많이 배출되는 구리 Cu, 아연 Zn 및 니켈 Ni 을 함유한 3성분 혼합 금속폐액에 대하여, H2S 를 이용한 금속의 황화물 처리의 유효성을 실험적으로 검토
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현재 일반적인 프린트 배선판은 동박과 절연소재를 접합한 동장 적출판에 도체 패턴을 프린트하여, 불필요 부분을 에칭하여 제거하는 방법이 이용된다.
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TSV (metallized through silicon vias) 에서 상향식 Cu 전착은 함몰된 표면 피쳐 내에서 선택적으로 분해되는 공동 흡착된 폴리에테르-Cl- 억제층에 의존한다. 이 연구는 ...
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순도가 다른 2종류의 황산구리로 건욕된 도금욕과 공칭순도 4N의 함인 구리양극을 이용한 구리배선을 형성하고, 배선저항율에 있어서 황산구리의 순도 영향을 밝히고, ...