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무전해구리 도금의 석출형태 제어
Morphology Control of Electroless Copper Plating Deposit

등록 2014.11.17 ⋅ 22회 인용

출처 일렉트로닉스실장학회지, 8권 6호 2005년, 일어 9 쪽

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기타

無電解銅めっきの析出形態制御

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.21
무전해구리 도금욕의 기본욕 조성과 첨가제 농도를 변화하여, 암반형 이외의 플레이트형 및 입형, 돌기형의 피막형대를 만들고, 무전해구리 도금욕 조성과 피막 형태에 관하여 검토
  • Nikal BP RTU electrolytic nickel produces matte to semi bright, low-porosity nickel deposits for wafer plating. Nikal BP is characterized by its ability to produ...
  • 6가 크롬 대체기술이자, 티타늄 전해 환원기술로서, 유기황화합물을 환원제로 사용하여, 도금에서 사 용하기 어려웠던 티타늄을 환원 석출하는 기술 및 도금액과 도금방법에...
  • 흑화 시간, 흑화 온도 및 흑화제 농도가 은 Ag 피막의 흑화 성능에 미치는 영향을 연구하고 은전기도금을 위한 화학적 흑화공정을 결정하였다. 이 과정은 다음 두단계로 구...
  • 종래의 직류전해에서 전류반전 전해를 전해연마에 적용한 결과, 연마액의 저농도화, 저온도, 가스핏트의 발생억제, 알칼리욕에 의한 연마가 가능한 등의 효과를 보고하였다.
  • EDTA ^ Ethylene Diamine Tetra Acetic Acid (HOCOCH2)2NCH2CH2N(CH2COOH)2 〔C10H16N2O8 = 292.24 g/㏖〕 CAS : 60-00-4 EDTA 는 중요 착화제의 하나로 금속이온과 결합하...