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검색글 Naotaka TANABE 1건
CuCl-1-부틸 피리디늄 크로라이드 상온형 용융염욕의 Cu(i) 이온에서의 고순도 Cu의 전석
High Purity Cu Deposition from Cu(I) Ion in CuCl-1-Butylpyridinium Chloride

등록 2015.03.24 ⋅ 22회 인용

출처 표면기술, 56권 3호 2005년, 일어 7 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

Nobuyuki KOURA1) Satoshi SEIKI2) Naotaka TANABE3) Takashi YASUHIRO4) Koichi UI5) Shigeru ITO6)

기타

CuCl-1-ブチルピリジニウムクロリド常温型溶融塩中のCu(I)イオンからの高純度Cuの電析 -Cu電析物への不純物の混入と溶融塩浴の精製-

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.07.18
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  • 스루홀 도금 ^ Through Hole Plating [인쇄회로] (PCB) 도금에서 양면 사이를 관통하는 홀에 회로를 구성하는 방법으로, 관통 내면을 도금방법을 이용하여 회로를 만드는 방...