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검색글 Takashi YASUHIRO 1건
CuCl-1-부틸 피리디늄 크로라이드 상온형 용융염욕의 Cu(i) 이온에서의 고순도 Cu의 전석
High Purity Cu Deposition from Cu(I) Ion in CuCl-1-Butylpyridinium Chloride

등록 2015.03.24 ⋅ 22회 인용

출처 표면기술, 56권 3호 2005년, 일어 7 쪽

분류 연구

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저자

Nobuyuki KOURA1) Satoshi SEIKI2) Naotaka TANABE3) Takashi YASUHIRO4) Koichi UI5) Shigeru ITO6)

기타

CuCl-1-ブチルピリジニウムクロリド常温型溶融塩中のCu(I)イオンからの高純度Cuの電析 -Cu電析物への不純物の混入と溶融塩浴の精製-

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.07.18
CuCl-1-Butylpyridinium chloride (BPC) 상온 용융염 전해질로부터 고순도 Cu 전착을 조사하였다. 본 연구에서는 불순물로 은을 조사하였다. Ag(I) 이온 농도가 66.7 mol % CuCl-33.3 mol% BPC 용융물에서 10 ppm 미만으로 제어되 12 ppm 미만으로 제어되는 경우 Ag는 Cu 전착물에 전극 위치를 지정하지 않았고 Cu 순도는 99...
  • 크로메이트법에서의 오늘의 문제점은 피막처리액의 안정성과 폐액처리이다. 정상적인 크로메이트는 사용 시작 후 점차 성분 변화를 일으키며, 생성 피막의 품질에 영향을 미...
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  • PS
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  • 경박단소화, 고성능화가 진행되는 휴대전자기기는 프라스틱의 EMI 실드를 필요로한다. EMI 실드의 방법의 하나인 진공증착법의 실용화의 현황과 문제점에 관하여 설명