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반도체 가공처리액의 조성분석
NA

등록 : 2010.04.29 ⋅ 62회 인용

출처 : na, NA, 일어 4 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

半導体加工処理液の組成分析

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.18
CMP 슬러리의 성분 분석에 대해 소개하고, 무기물이 많은 유기물 분석으로 더 난이도가 높은 구리도금액의 조성분석에 주로 전처리법을 중심으로 소개한다. 1. CMP 슬러리의 조성분석 2. 동 도금액의 조성분석
  • 벨루어 니켈 프로세스는 탁월한 균일성과 미끄럼이 없게 해 주는 니켈도금 층을 만들어 준다. 벨루어 니켈 표면은 약 0.8 μm (미크론) 높이의 요철이 되므로, 어떠한 소지의...
  • 배출 또는 물 재사용 전에 독성 금속의 농도를 정해진 한계 이하로 줄이기 위해 도금 용액과 수세수를 처리하는데 중점을 두고 있다. 사용 가능한 기술은 대부분의 폐수의 ...
  • 일반적으로 니켈 전기도금조와 관련된 아연, 구리 및/또는 철 불순물은 아연, 구리 및/또는 아연을 전환시키기에 충분한 양의 디메틸디티오카바메이트 또는 디부틸디티오카...
  • 크롬도금액 관리 ^ Control of Chrome Plating Bath [장식크롬불량|장식 크롬도금의 불량대책] [경질크롬불량대책|경질 크롬도금의 불량대책] [3가크롬도금액관리|3가크롬 ...
  • 인쇄회로 기판을 제조하는 동안 사용되는 공정은 변색방지 및 납땜가능한 코팅을 제공하기위해 금속패드 및/또는 관통구멍을 보호하는 것을 포함한다. 이 방법에서, 패드 및...