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감수성과 활성화가 없는 세라믹에 있어서 선택적 무전해구리 도금 마이크로 패턴
Selective Electroless Copper Plating Micro-pattern on Ceramics Without Sensitisation and Activation

등록 2015.04.03 ⋅ 27회 인용

출처 Electrochemistry, 11권 2호 2005년, 중국어 6 쪽

분류 연구

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저자

XU Zhen-lin1) GUO Qi-long2) SHEN Yi-cheng3) ZHAO Xiong-chao4) HONG Yan-ping5) GU Zhi-jun6)

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자료요약
카테고리 : 무전해도금기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.08
팔라듐 활성화 단계가 없는 새로운 무전해구리도금기술에 관한것으로, 레이저 미세 에칭기술과 새로운 구리도금욕을 결합하여 세라믹에 구리도금을 하였다. 실험 결과 구리 무전해도금에 사용된 용액은 안정적이었으며, 얻어진 40 μm 정도의 구리피막은 밝고 밀도가 높은 피막으로 전기전도도 좋았으며, 시스템으로부터 ...
  • 고온형 스프레이 타입의 인산염 처리 공정에서 표면조정 농도에 따른 인산염 처리성과 도장성을 평가
  • 이온크로마토그라프-법, 원자흡광광도법, 흡광광도법 등의 기기분석이 이용되고 있으나, 이들의 상세한 조작법은 생략하고, 3가크롬 등의 분석법을 소개
  • 분산도금은 여러제료의 표면특성을 향상하는 새로운 도금으로발전하고 있으며, 최근 분산도금에 관하여 그 특성을 피막의 용용예로서 설명
  • 지난 몇년간 납프리의 논의로 침지 주석도금이 SDM 어셈블의 표준 표면처리로 되었다. 대부분의 어셈블은, 예외없이 2006년 7월 이후 납프리 마켓에 출시되었다.
  • 금속의 표면처리는 메커니즘으로 표현되지만 표면 처리는 표면의 미적 외관, 즉 장식에 불과하다는 기존의 개념입니다. 또한 이러한 표면기술과 같은 다양한 기술이 개발되...