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반도체 도금공정에 있어서 트러블과 그 대책 - 무전해 UBM 형성에 있어서 트러블 사례와 그 대책 -
The Difficulties in Plating Process for Semiconductor and their Counter-Measures

등록 : 2015.07.05 ⋅ 15회 인용

출처 : 표면기술, 65권 7호 2014년, 일어 3 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

半導体へのめっき工程におけるトラブルとその対策 -無電解UBM形成におけるトラブル事例とその対策-

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자료요약
카테고리 : 무전해도금통합 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2015.07.05
시제품 및 양산과정에 있어서 발생된 불량사례의 하나와 그 대책을 상담자와 QnA로 소개
  • SD 니켈 양극 ^ SD Nickel Anode 전기니켈에 소량의 S (0.01~0.02 %) 을 넣어서 양극 용해가 잘 되게 만든 것이다. 소형의 사각형으로 티타늄 바스켓에 넣어서 사용한다. 양...
  • 아연니켈 전착은 펄스도금에 의해 pH 3~4의 설파메이트욕을 사용하였고, 얻어진 도금피막은 미세경도, 표면거칠기를 측정하고 SEM, XRD, AFM 기술을 사용하여 특성화되었다....
  • 수용성 알칼리 도금욕으로부터 아연의 전착을 개선하는데 특히 유용한 조성물이 기술된다. 새로운 조성물은 하나 이상의 질소-함유 헤테로시 클릭 화합물을 에피할로히드린,...
  • 분산된 붕소 입자를 함유한 도금욕에서 니켈을 전기도금하여 니켈-붕소 복합 피막을 얻을 수 있음이 나타냈다. 300 °C 로 가열된 이 도금은 Ni-Ni3B 복합재를 형성하며 400 ...
  • Cr3+, Cr6+ 및 PO43-로 구성 코팅된 크롬 산염의 경우 열분석에 대한 반응거동과 실제 건조 공정중 건조온도가, 내식성 및 크롬 고정 속도에 물리적 특성과 관련이있는 것으...