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제2환원제로서 DMAB를 이용한 구리 미세패턴에 있어서 선택적 무전해니켈 도금
Selective electroless nickel deposition on the copper fine atterns by using DMAB as a second reducing agent
등록
:
2008.08.19
⋅ 53회 인용
출처
:
표면기술
, 52권 3호 2001년, 일본어 5 페이지
분류
:
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
Katsuhiko TASHIRO
1)
기타
:
자료
:
분류 :
석출기구
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DMAB
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디메틸아민보란
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무전해니켈
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Innotive 종합카타록
자료요약
카테고리 :
구리/합금
| 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.12.05
DMAB을 제2환원제로한 무전해니켈 도금의 석출 메카니즘과 선택적 석출성에 관하여 검토한 결과보고
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