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무전해 코발트-인 석출
Electorless cobalt-phosphorus deposition

등록 : 2017.10.20 ⋅ 17회 인용

출처 : Bull of electrochem, 6권 4호 1990년, 영어 2 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

Bullentin of electrochemistry

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자료요약
카테고리 : 무전해도금기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.09
1~4 μm/hr 의 석출속도와 3~7 % 의 인 석출물로 황산/시트레이트를 기반으로하는 도금액을 개발하였다. 석출속도에 대한 pH, 온도, 욕조성, 양이온, 음이온 및 기본첨가의 영향을 연구 하였으며, 소재와 석출피막 사이의 밀착력이 우수한 것으로 밝혀졌다.
  • 사카린, 나프탈렌 디설폰산 및 부틴디올을 첨가제로 사용하는 광택 니켈도금에 대한 레벨링 작용을 현미경 사진으로 연구하였다. 레벨링 비율은 부틴디올의 양에 비례 증가...
  • 전해정련 과정 중 첨가되는 중요한 첨가제로 thiourea 와 glue가 있다. 이 두가지 첨가제는 공업적으로 사용되고 있는 구리 전해정련 셀에서 결정립 미세화제 (grain refini...
  • 광택 황동을 소재금속에 전기도금하는 신규방법은 함유하는 알칼리성 시안화물 수용액을 통해 애노드로 부터 소재금속 캐소드로 전류를 통과시키는 것을 포함한다. 구리이온...
  • PEG SPS JGB 세성분의 미량 첨가제에 관하여 FIA 를 이용하여 고전위에서 다이아몬드 전극을 검출기로한 분석방법 연구
  • 아연-니켈 합금용 3가 크로메이트로 6가크롬과 코발트 이온을 함유하지 않았으며 내식성이 우수한 피막을 얻을수 있다. 장기간 사용시에도 구름낀 현상이 적고 우수한 광택...