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검색글 John McCaskie 4건
고전류밀도 염화 아연 도금 공정과 조성
High current density zinc chloride electrogalvanizing process and composition

등록 : 2008.08.27 ⋅ 33회 인용

출처 : 미국특허, 1997-5656148, 영어 10 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 아연/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
도포된 HCD 아연피막은 수지상 방지제를 곡물 정제 제보다 더 많은 양으로 증가시킴으로써 설폰화 나프탈렌 포름 알데하이드 항수지제 및 저분자량 에틸렌 옥사이드 중합체를 사용할 때 더 부드러워 질 것이다.
  • 공정의 특성(Process Characteristics) 광택 은도금 공정은 연마된 소지에 백색의 유리광택 도금을 의해 특별히 개발된 공정입니다. 첨가되는 광택제는 모두 유기첨가제로 ...
  • 8~15 % 니켈을 함유한 아연니켈합금도금은 부식 방지를 위해 스테인리스강 위에 도금하였다. 알칼리욕에서 우수한 소재보호를 제공하는 것으로 밝혀고, 알칼리욕이 산성...
  • 수용성 도금액은 본질적으로 구리이온 방출 화합물, 구리이온 착화제, 구리이온 환원제, 알칼리금속 수산화물, 2.2'-디피리딜, 폴리에틸렌클리콜, 스테아릴아민 및 황화은으...
  • 시험 용액 조제 ^ Formulation of Analysis Solution 참고 [적정액] [표준용액] [지시약] [지시약조제|지시약 조제] [완충제|pH 완충제] [버퍼용액] [도금액분석|도금액 분석]
  • 산업용 세정제의 원리와 비누화 반응등의 기본요소 이론 설명