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검색글 Noboru KUBOTA 14건
헥사클로로 이리듐(iv) 용액에서의 이리듐의 전석
Electrodeposition of Iridium from Hexachroroiridate (IV) solution

등록 2008.09.04 ⋅ 56회 인용

출처 표면기술, 40권 1호 1989년, 일어 2 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.23
헥사클로로 이리듐 및 황산을 함유한 용액에서 이리듐도금에 관한 기본적인 전류-전위 곡선, 전해조건, 전류효율, 표면형태등을 검토하였다.
  • 코발트 Co(ii) 착체를 환원제로 한 중성 무전해 구리도금에 의한 ULSI 구리 미세배선의 형성에 있어서 웨이퍼 표면의 구리시드에 자비 흡착한 PEG 의 구리석출에 있어서의 ...
  • 활성제 · Activator [POP] (플라스틱 도금) 등 비전도성 소재의 [무전해도금] [활성화]방법으로 에칭에 의한 친수화 처리된 표면을 [염화제일주석]으로 침지 처리하는 방법...
  • 노듈 Nodule PCB 제조 도금공정에서 과대한 전류로 인하여 배선 라인과 레지스터 라인의 경계와 모서리에 발생하는 구리의 혹형 또는 돌기형 이상 석출을 말한다. 참고 [인...
  • 수소취성 방지 ^ Prevention of Hydrogen Embrittlement [수소취성]은 [음극전해탈지|음극 전해탈지]ㆍ[산세]ㆍ[전기도금] 등에 의해서 생긴 수소가 항복강도 가 낮은 강철...
  • 100 도 이하의 수용액중에 스피넬형 자성막을 직접 형성하였고, 열처리가 필요없어 프라스틱이나 나노다층 구조등, 내열성이 없는 물체를 소재로 이용하는 새로온 자성박막 ...