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알루미늄 에칭
Aluminium Etching

등록 2008.09.05 ⋅ 305회 인용

출처 Microchemicals, 2009-12-15, 영어 3 쪽

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자료요약
카테고리 : 경금속처리 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.02.21
일반적인 알루미늄 식각액에는 1~5 % HNO3 (Al 산화 용), 65~75 % H3PO4 (Al2O3 용해 용), 5~10 % CH3COOH (습식 및 완충 용) 및 주어진 온도에서 H2O 희석 혼합물이 포함되어 식각을 정의합니다. 알루미늄 에칭은 발열성이 높으며, 레지스트마스크의 언더에칭 (등방성 에칭으로 인해 불가피 함)은 교반이 수행되지 않을 경...
  • 탁월한 성능의 광택니켈도금 첨가제로 레베링, 광택, 피복력이 우수하며, 특히 중 저전류부의 광택이 우수하며 후도금 크롬의 밀착력도 우수하다.
  • Zn-Ni 알칼리 전해질에 3가, 4가, 5가 원소를 첨가하여 전착된 복합층을 얻는 방법으로, 전하 이동을 차단하는 부식성 환경에 노출시킨 후, 시료 표면에 n형과 p형 산화물 ...
  • 부텐올 · 3-butene-1-ol C4H8O = g/㏖ CAS : 627-27-0 성상 : 무색 액상 순도 : 96 % 로 물에 용해 제약용으로 사용 참고
  • 하이드록시 알칸 설폰산을 함유 하는 도금욕(鍍金浴) 에서 반도체 디바이스 등의 전자부품을 도금하여도, 회로간 절연이 불량이 되는 등의 문제를 기인하지않는, 도금욕용(...
  • 미국 환경보호국장의 공해전반에 걸쳐 새로운 폐수처리 기술을 발표한 것을 위주로하였으며, 내용중 중요한 부분들은 타 연구재료들로부터 보충 설명하였으며, 일반 도금공...