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폐수처리
도금욕용(鍍金浴用)첨가제
Additives for plating
등록
:
2008.08.22
⋅ 52회 인용
출처
:
한국특허
, 2005-0075692, 한글 4 쪽
분류
:
특허
자료
:
웹 조사자료
저자
:
고바야시 히로미츠
1)
니도 히로히사
2)
가와마타 히로마사
3)
기타
:
자료
:
분류 :
알칸설폰산
⋅
전자부품
⋅
이세티온산소다
⋅
글리옥살
⋅
목록
무전해 구리도금욕 조성
Innotive 종합카타록
알루미늄 표면처리제
자료요약
카테고리 :
금은/합금
| 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.10.31
하이드록시 알칸 설폰산을 함유 하는 도금욕(鍍金浴) 에서 반도체 디바이스 등의 전자부품을 도금하여도, 회로간 절연이 불량이 되는 등의 문제를 기인하지않는, 도금욕용(鍍金浴用)첨가제 및 도금욕(鍍金浴)
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