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도금욕용(鍍金浴用)첨가제
Additives for plating

등록 : 2008.08.22 ⋅ 52회 인용

출처 : 한국특허, 2005-0075692, 한글 4 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.10.31
하이드록시 알칸 설폰산을 함유 하는 도금욕(鍍金浴) 에서 반도체 디바이스 등의 전자부품을 도금하여도, 회로간 절연이 불량이 되는 등의 문제를 기인하지않는, 도금욕용(鍍金浴用)첨가제 및 도금욕(鍍金浴)
  • 메탄설폰산 주석욕 ㆍ MSA 욕 ^ Methan Sulphonic acid bath [메탄설폰산] (MSA) 기반 주석 및 주석 합금 도금은 1980년대 초에 처음 개발되었으며 그 후 전기 도금 산업에...
  • 알루미늄 합금에 3원 무전해 니켈-구리-인 합금도금을 하고 상대적으로 높은 도금속도를 얻기위한 무전해도금액을 개발하였다. 다양한 구연산나트륨 농도에서 초기용액 pH ...
  • 증류수, 식염수, 볼드액, 포르마린, DDt, 포름산, 아비산소다등에 대하여 내식성에 관한 보고
  • 이 시험방법은 시료를 적당한 방법으로 해리 (解離) 시켜 중성원자로 증기화하여 생긴 바닥상태 (Ground State) 의 원자가 이 원자 증기층을 투과하는 특유 파장의 빛을 흡...
  • 크롬도금액 중의 황산분석은 황산분을 염화바륨에 의해 침전시키고 이 양을 중량분석으로 행해지고 있지만,이 방법은 상당한 분석시간을 필요로 하기 때문에 공장 현장 ...