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전석 니켈-텅스텐 Ni-W 합금도금막의 미세구조와 자성특성
Microstructure and agnetic properties of Ni-W alloy films formed using electrodeposition

등록 : 2008.09.08 ⋅ 44회 인용

출처 : 연구보고, 6호 2003년, 일어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

電析Ni-W合金めっき膜の微細構造と磁기特性

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.09
고분해능 투과형전자 현미경 (HRTEM) 을 이용하여 원자의 배열을 관찰하고, 결정상과 아몰포스상과의 경계조성을 결정하였으며, 막의 자기특성을 측정하여, 막의 작성조건 도금막의 미세구조의 관계를 고찰
  • 저농도로 희석된 HF 수용액 (6 wt %) 을 사용하여 Al(OH)3 의 표면을 F/Al 의 몰비 0.15 에서 처리하고, 처리 전후 표면특성을 관찰하였다. 반응계의 온도 및 pH 변화로부터...
  • 특히 불소의 제거처리기술을 중심으로 실용화된 할로겐킬러(하이드로타르사이드를 주성분으로한 처리제)에 관하여 그 개발로부터 실용화에 관하여 설명 [ハロゲンキラーによ...
  • 표면처리 강판의 도금 상에 형성하는 "얇고 강한 막"에 대해 설명한다.
  • 광택 및 레벨링을 포함하는 전자회로 기판의 도금에 특히 적합한 산성 구리도금액 전해질로부터 연성, 괌택, 레벨링 구리도금을 전착시키는 조성물 및 방법
  • 회로기판에 부착할수 있는 레이어 형성의 문제는 작고 날카 롭다는 것이다. 추가 처리전에 패널을 보관한후 표면이 부식됨 (전기 부품 장착)