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전기도금 과정 조성물 및 침착물
Electroplating process composition and deposition

등록 : 2008.09.18 ⋅ 38회 인용

출처 : 한국특허, 1999-0067295, 한글 15 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.07.26
1.25 ~1.55 % w/w 철, 1~2 ppm 지르코늄 및 97.7~98.2 % 금 Au 을 함유하고, NIHS 스케일로 3N 이하의 담황색을 띠는, 코발트, 카드뮴 및 니켈 비함유 전착을 제공한다
  • 크롬확산 피복법 ^ Chromium Difusion Coating [크로마이징] 참고 [확산도금]
  • 복합 구연산염 암모니아욕에서 구리 및 니켈 합금의 전착 동역학은 분극화 및 전기화학적 임피던스 기술을 통해 조사하였다. 복합 구리원 Cu(II) Cit의 2단계 방전은 합금 ...
  • 아연니켈합금전기도금시 발생되는 수소억제에 의한 도금액의 조업조건 안정화 (pH 안정화) 와 이때 발생되는 슬러지를 억제하여 강판위에 양호한 도금층의 제조를 위한 ...
  • IC 통전을 위한 임시 접점으로 MEMS 에 잠재적으로 적용될 수 있는 이동 가능한 니켈-텅스텐 NiW 미세 구조의 전기도금 및 특성에 대한 기본 조사를 보고하였다. NiW 층은 ...
  • 도금막의 결정 구조는 도금마다 변하고 재현성이 나쁘고 구조 제어가 극히 어렵다고 생각된다. 그러나 저자는 최근 투과형 전자 현미경으로 도금 막의 단면 구조를 관찰 한 ...