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크롬도금 방법 및 크롬도금 장치
Chromium plating methode and plating equipment

등록 2008.09.23 ⋅ 56회 인용

출처 일본특허, 2002-47959 A, 일본어 9 페이지

분류 특허

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.27
상온은 물론 열을 수반하는 경우에도 크롬층에 크랙이 발생하지 않는 크롬도금 부품을 보다 넓은 전류조건으로 안전되게 만들수 있는 크롬도금 방법 및 장치
  • 3가크롬기를 함유하는 클래스 (I) 화합물의 매우 작은 비율, 바람직하게는 티오시아네이트의 화합물이 용해된 도금욕에서 전착 된다.
  • 반도체 재료로서의 갈륨-비소 GaAs 합금박막을 전해석출법으로 형성할 목적으로, 전단계인 갈륨의 석출과 그 전기화학적 특성에 관하여 검토하고, 산성 또는 알칼리욕에서 ...
  • 마그네슘의 표면처리가 받고 있으며, 여러가지 처리방법이 실용화 개발되고 있으나, 양극산화 처리에 관하여 기본적인 특징과 처리법, 평가특성 및 최근의 진보에 관하여 설명
  • 팔라듐 촉매법을 이용한 다이렉트도금에 관하여 설명
  • 팔라듐 화합물, 암모니아 및 아민 화합물에서 선택된 하나 이상의 착화제, 포스폰산 및 프로피네이트에서 선택된 하나이상의 재화제, 불포화 카복실산 무수물, 불포화 카복...