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헐셀(Hull Cell)의 전류분포에 대한 고찰
A study of the electric current distribution in Hull Cell

등록 2008.08.02 ⋅ 121회 인용

출처 금속표면기술, 27권 12호 1976년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.06.26
헐셀을 이용한 황산구리도금으로 만든 피막을 음극각부의 전류분포를 구하고, 등각여상법을 이용한 이론적인 전류밀도분포를 구하여, 실험결과와 비교검토한 자료
  • 리플은 또한 금속구조와 광택니켈의 침투력에 영향을 미치는 것으로 나타났다. 광택주석, 광택은 및 광택구리, 그러나 리플 감도 측면에서 다양한 다른 전기도금 방법은 연...
  • 최근 광택제 화학의 발전으로 미세 균열이없는 (111) 배향된 팔라듐이 매우 밝고 광택이 나는 전착이 가능해 졌다. 이 선호되는 결정학적 배향은 내마모성을 크게 향상시칸...
  • 전기도금 이전에 알루미늄의 전처리를 위한 개선 된 조성 및 공정을 제공합니다. 본 발명은 산, 산화제 및 임의로 할로겐화 화합물로 구성된 수성 조성물이다.
  • 다양한 저마찰성 토르크 개선 코팅제
  • 고전류밀도 덴드라이트 형성을 감소시키고 산성 아연염으로부터 얻은된 아연피막의 고전류밀도 거칠기, 입자크기 및 배향을 제어하기 위한 고전류 밀도 전기아연 도금공정 ...