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저농도 광택 황산구리 도금액의 개발과 그 공업화 (2) 공업화 실험
低濃度光沢硫酸銅めっき液の開発とその工業化-その2 工業化実験-

등록 2010.01.08 ⋅ 44회 인용

출처 실무표면기술, 24권, 일어 5 쪽

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.25
실제 도금공장에 공업화실험의 결과에 관하여, 그 성공예와 실패예에 관한검토
  • 다른 도금 시간과 함께 시료의 표면 형태의 변화 경향을 밝히고 표면 형태, 알루미늄 매트릭스와의 코팅의 접착 성 및 내식성 사이의 상관 관계를 논의하였다. 무전해 니켈...
  • Acid Cleaner PC는 PCB의 구리 또는 주석-연의 패턴도금전 레지스터 크리닝용으로 만들어 졌다.
  • 질산 침지 ㆍ Nitric Acid Dipping [아연도금] 후 [크로메이트] 처리전의 도금상태 평가와 광택처리를 위한 1~5 % 정도의 질산에 침지하는 것을 말한다. 도금표면의 알칼리...
  • 알루미늄의 화학연마에 관한 것으로, 인산 (H3PO4) 50~70 중량 %, 황산 (H2SO4) 20~40 중량 %, 질산 (HNO3) 5~15 중량 %, 그리세린 0.01~0.05 중량 %, 질산구리 (CuNO3)...
  • 폴라로그라피 ㆍ Polarography 전압-전류 분석법으로 적하 수은 전극을 이용하여, 시료용액을 전기분해하며, 이때 공급한 전압-전류를 통하여 수치를 그래프로 만들고, 이 ...