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검색글 Takeshi HATSUZAWA 3건
구리 전착에 있어서 염화물 소모
Cl- Consumption in Copper Electrodeposition

등록 : 2009.07.11 ⋅ 24회 인용

출처 : na, na, 영어 1 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.07.29
구리 수퍼필링은 산성 황산구리 전기도금조에 첨가제 (일반적으로 PEG, Cl 및 SPS) 의 존재에 의해 달성다. 최근 수퍼필링 메커니즘 중 하나로 할로겐 이온 농도가 감소하여 트렌치 바닥에 빠른 전착이 발생하는 할로겐이온 소모 모델을 제안했으며, 구리 상향식 전착도 추가로 구현되었다. 산성 황산구리 도금조에서 PEG 및...
  • 비아홀 · Via Hole 다층 PCB 제작과정에서 전후면 또는 내부 통전을 위한 홀을 만들고 도금하여 통전회로를 구성하는 방법을 말한다. 스루홀과 다른점은 보통 부품을 삽입 ...
  • 금속 또는 비금속 기판에 뚜렷한 외형을 갖도록 주석을 무전해 도금하는 조성물
  • 노시안(징케이트)의 특이성과 관리상의 무제점에 관하여 고시안욕과 비교하여 설명
  • 디메틸 설폭사이드 (DMSO) 는 뉴 클레오 사이드 존재하에 Ni의 전착을 위한 강력한 매질로 작용할수 있다. 매우 밝은 전기 도금은 미량의 뉴 클레오사이드 (리보시 틴 / 데...
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