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광택 아연석출의 산성 아연도금욕과 방법
Acid zinc plating baths and methods for electrodepositing bright zinc deposits

등록 2009.07.24 ⋅ 46회 인용

출처 미국특허, 1980-4229268, 영어 8 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 아연/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.05
도금욕은 하나 이상의 방향족 카보닐 화합물, 특히 방향족 알데하이드 및 방향족 카복실산을 함유할수 있다. 이러한 설폰산의 방향족 설폰산 및 에틸렌 옥사이드 축합물도 도금욕에서 유용하다. CRU-PEG HS 1000 키실렌 설폰산소다 벤조익산 소다 Water 30 % 20 % 10 % 40 % CRU-PEG HS 2000 키실렌 설폰산소다 b-나프톨 반...
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