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3가크롬 도금의 기술연구
Technological Investigation of Trivalent Chromium Plating

등록 : 2020.08.05 ⋅ 19회 인용

출처 : Plating and Finishing, 34권 12호 2012년, 중국어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

LI Jia-zhu1) MAO Zu-guo2) DING Yun-hu3) LI Wen-gang4) SUN Ning5) HOU Wei6)

기타 :

三价铬电镀铬的研究

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분류 :
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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2020.12.21
황산염 시스템과 DSA 양극을 사용하여 3가크롬 도금을 실시했다. 피막의 두께와 구조는 X-선두께 테스터와 회절장치로 시험하였다. 3가크롬 도금의 간단한 구성, 높은 전류효율로 전착속도 2 μm/min, 온도 15~45 ℃, 도금두께는 80 μm 에 도달 하였다.

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