도금 첨가제 제조 원료약품 - 전해석출에 의한 니켈-코발트-인 도금피막의 성상에 관하여

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전해석출에 의한 니켈-코발트-인 도금피막의 성상에 관하여

Physical Properties of Electrolytic Ni-Co-P Deposits

등록 2010.01.04 ⋅ 41회 인용

출처 금속표면기술, 20권 2호 1969년, 일어 4 쪽

분류 해설

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저자

Tokuzo KANBE¹⁾

기타

電解ニッケル-コバルト-リンメッキ皮膜の構造について (第1報)

자료

분류 니켈-코발트-인 ⋅ 합금도금 ⋅

자료요약

카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.01.15

니켈 Ni, 코발트 Co, 인 P 3원소의 전해조건에 관하여, 전해욕조성과 양호한 전류밀도 범위와의 관계, 전해욕조성과 석출량과의 관계, 전해석출 피막의 열처리후의 경도변화, X선회절에 의한 전해석출시 및 열처리후의 구조변화등에 관하여 조사

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