로그인

검색

검색글 Masahiro DEO 1건
양극산화 피막의 응력
Stresses generated in anodic oxide films

등록 : 2008.08.08 ⋅ 41회 인용

출처 : 표면기술, 51권 4호 2000년, 일어 6 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.12.06
양극산화 피막에서의 응력 요인은, 하지금속과 피막과의 몰 용적비가 다르고, 성막 성장에 있어서 이온의 이동, 고전장에 의한 전기왜곡, 피막의 수화 탈수등이 있다.
  • 전자제품의 점진적인 소형화로 인해 현대의 핸드헬드 장치 (예 : 스마트 폰) 는 하나의 장치에 점점 더많은 기능을 통합 하였다. 이러한 장치의 핵심 요소중 하나는 HDI PCB...
  • 장식용 크롬도금을 대상으로 하고 구리, 니켈, 크롬도금에 대하여 조사연구 하였으며 조사는 도금업체의 현황 및 공장실태를 파악하는데 역점을 두고 당면한 문제점 및 ...
  • 내식성이 우수한 희토류 자석의 제조방법 및 그것에 사용하는 도금욕을 제공한다. 희토류 원소를 함유하는 자석 소체에,니켈을 함유하는 제 1 보호막과, 니켈 및 황을 함유...
  • 거의 모든 도금된 금속은 결정질이므로 원자가 격자라고하는 규칙적인 3차원 패턴으로 배열된다. 세가지 가장 중요한 격자는 면중심 입방체 (fcc), 몸중심 입방체 (bcc) 및 ...
  • 알브라이트법 ^ Albirght Process 일본 알브라이트 사가 개발한 황산을 이용한 알루미늄 [양극산화] 법의 상표명이다. 양극산화 처리 후 [봉공처리] 를 실리콘 오일을 첨가...